2024年7月12日，寧波冠石半導體有限公司迎來關鍵節(jié)點，企業(yè)引入首臺電子束掩模版光刻機。據(jù)悉，該設備是光掩模版40納米技術節(jié)點量產(chǎn)及28納米技術節(jié)點研發(fā)的重點設備。
寧波冠石半導體公司是一家專業(yè)從事半導體光掩模版制造的企業(yè)，企業(yè)主要從事45-28nm半導體光掩模版的規(guī)?；a(chǎn)。光掩模版是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形轉移工具或母版，其功能類似于相機的“底片”。作為半導體產(chǎn)業(yè)鏈上游重要的原材料之一，光掩模版是承載圖形設計和工藝技術等知識產(chǎn)權信息的載體。目前，我國高精度半導體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴于進口，國產(chǎn)化率極低。
從2023年5月16日落筆簽約，同年10月1日落地開工，2024年1月27日落成結頂，到如今設備陸續(xù)進場，搭乘營商環(huán)境優(yōu)化提升“一號改革工程”的“東風”，寧波冠石半導體公司建設按下“快進鍵”，再次刷新前灣新區(qū)數(shù)字經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)的新速度。
門檻高、壁壘厚、而需求旺，光掩模版產(chǎn)業(yè)發(fā)展空間價值凸顯，在廣闊的國內(nèi)外市場大有可為。當前，冠石一期潔凈車間設計產(chǎn)能為月產(chǎn)5000片180納米至28納米集成電路掩模版。據(jù)冠石相關負責人介紹，企業(yè)正加速推進海外布局戰(zhàn)略，并在世界一流半導體光掩模版制造技術班底的加持下，預計今年底，企業(yè)將陸續(xù)實現(xiàn)為國內(nèi)外中高端集成電路掩模版提供制版服務。
光掩模版制造是數(shù)字經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)的關鍵技術，是急需補上的“卡脖子”產(chǎn)業(yè)，也是彎道超車、換道超車的重要賽道。寧波冠石半導體是新區(qū)補齊半導體產(chǎn)業(yè)鏈的重要一環(huán)。企業(yè)建成投產(chǎn)后將成為國內(nèi)技術能力先進的獨立光掩模版生產(chǎn)企業(yè)，可填補國內(nèi)高階制程光罩空白，打破國外高端光掩模版的壟斷局面，提高我國半導體光掩模產(chǎn)業(yè)的安全和可控性。
產(chǎn)業(yè)高質量發(fā)展，要做到“新”中有“數(shù)”。為此，前灣新區(qū)大力招引冠石在內(nèi)的數(shù)字經(jīng)濟重點項目，攻克芯片、半導體等一批關鍵核心技術，構建以企業(yè)為主體的技術創(chuàng)新體系。
近年來，前灣新區(qū)聚焦數(shù)字經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)，引進相關項目超60個，總投資超300億元，聚集了一大批數(shù)字經(jīng)濟龍頭企業(yè)，初步培育形成集成電路、智能終端、汽車電子、軟件設計、關鍵傳感器等數(shù)字經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)鏈。
為進一步優(yōu)化數(shù)字產(chǎn)業(yè)發(fā)展生態(tài)環(huán)境，前灣新區(qū)還組建20億元的數(shù)字經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)發(fā)展基金，專門投向電子信息制造、工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)、5G+、人工智能等產(chǎn)業(yè)方向，助力數(shù)字經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)加快發(fā)展。